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    GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

    簡(jiǎn)要描述:GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可設(shè)定程序,并精確控制溫度200ºC-1500ºC(或者1200ºC-1700ºC),Z大可蒸鍍直徑2“的薄膜樣品,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),以獲得更均勻的薄膜。可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜,廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED。

    • 產(chǎn)品型號(hào):
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2018-11-05
    • 訪  問(wèn)  量:3579

    詳細(xì)介紹

    品牌其他品牌產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)

        GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對(duì)程序進(jìn)行設(shè)定,并精 確控制溫度在200ºC-1500ºC(或者1200ºC-~1700ºC)的范圍內(nèi)進(jìn)行變化,可蒸鍍直徑長(zhǎng)達(dá)2"的薄膜樣品,在對(duì)樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過(guò)程中,樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn),以獲得更均勻的薄膜。GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜,因此被廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED的制備。GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀體積小巧,可有效節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間;操作簡(jiǎn)單,對(duì)不同材料的適應(yīng)性強(qiáng),因此被廣泛應(yīng)用于各大高校和科研院所的實(shí)驗(yàn)室當(dāng)中。

    產(chǎn)品型號(hào)

      GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

    主要特點(diǎn)

      1、已通過(guò)CE認(rèn)證。

      2、采用石英腔體,易于清潔和樣品的放入

      3樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),能夠使所制薄膜達(dá)到更好的均勻性

      4鎢絲作為發(fā)熱源,zui高溫度可達(dá)到1700℃,并配有的氧化鋁舟裝載樣品(僅1600ºC以下使用,若蒸

      發(fā)溫度大于1600ºC,樣品應(yīng)直接放在鎢絲籃中)

           

      5熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測(cè)量和控制

      6、可將設(shè)備轉(zhuǎn)換到手動(dòng)調(diào)節(jié)狀態(tài),內(nèi)部不安裝熱電偶,直接采用手動(dòng)調(diào)節(jié)輸出電流大小,發(fā)熱源溫度可達(dá)

         2000ºC,可達(dá)到對(duì)樣品鍍碳等實(shí)驗(yàn)要求。

      7、可向真空腔體中通入惰性氣體,對(duì)腔體進(jìn)行清洗,也可通入反應(yīng)氣體,進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜。

      8、進(jìn)氣口配有針閥,用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量。

    技術(shù)參數(shù)

      1電壓:AC 208V-220V 50Hz/60Hz 單相

      2zui大功率:500W,zui大電流為30A

      3真空腔體:石英腔體,直徑Φ6"

      4、樣品臺(tái):直徑Φ50mm;可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5rpm;與蒸發(fā)源間距可調(diào),調(diào)節(jié)范圍60mm-100mm

      5、zui高溫度:1700ºC

      6、熱電偶:S型熱偶,工作溫度200ºC-1500ºC(可選用B型熱偶,工作溫度1200ºC-~1700ºC

      7、控溫精度:±1ºC,數(shù)顯溫度控制器,可設(shè)置30段升降溫程序

      8、鎢絲籃:2個(gè)

      9、真空接口:KF40

      10、真空計(jì):數(shù)顯防腐真空計(jì)PCG554,測(cè)量范圍3.8×10-5-1125torr

      11、進(jìn)氣接口:1/4NPS

    產(chǎn)品規(guī)格

      尺寸:440mm×330mm×630mm

     

    可選配件

      1機(jī)械泵(帶油污過(guò)濾器)(真空度<10-2torr,可以蒸發(fā)貴金屬,如AuAg)

      2、分子泵(可獲得高真空,真空度<10-5torr,蒸發(fā)易氧化材料,如AlMgLi等)

      3低真空系統(tǒng)

      4、高真空系統(tǒng)

      5、等離子清洗機(jī)(鍍膜前對(duì)基片進(jìn)行清洗,可獲得更好的薄膜強(qiáng)度)

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