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    VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

    簡要描述:VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時間:2024-04-10
    • 訪  問  量:678

    詳細介紹

    品牌其他品牌價格區(qū)間面議
    產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

    VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。

    產(chǎn)品名稱
    VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀


    產(chǎn)品型號
    VTC-1RF-SPC


    主要參數(shù)
    · 電源:AC380V/50HZ
    · 額定功率:4.2KW
    ·外形尺寸:長840*寬750*高1900mm
    ·重量:約310KG



    不銹鋼腔室
    · 內(nèi)徑φ250*高度360mm;
    · 腔體前部帶有一個CF100的真空密封法蘭,密封法蘭上面安裝了一個石英觀察窗口;
    · 腔體右側(cè)帶有一個從CF60法蘭接口,用于和分子泵進行連接
    · 腔室上部有一個LF250法蘭接口,法蘭端蓋上部固定有濺射靶頭和樣品臺;
    · 腔體左側(cè)帶有一個KF63法蘭接頭,用于連接蒸發(fā)模塊;
    · 腔體右側(cè)帶有一個CF35法蘭接口,用于連接薄膜測厚儀;
    · 腔體后部帶有兩個精密調(diào)節(jié)針閥,用于控制進氣量,通過調(diào)節(jié)進氣量的大小,實現(xiàn)腔體內(nèi)不同真空度的濺射;
    · 腔體后部預(yù)留一個1/16英寸的卡套接口,用于客戶后期連接質(zhì)譜儀的檢測管道。

    ·腔室真空度:
    冷態(tài)下,用VRD-48機械泵抽30分鐘,≤1Pa
    冷態(tài)下,用FF-160/700分子泵抽30分鐘,≤8*10-4Pa

    濺射靶頭
    磁控濺射靶頭固定在上法蘭端蓋上,通過焊接波紋管密封,方向朝上,和樣品臺形成45度夾角
    · 標配1英寸的磁控濺射靶頭,內(nèi)部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現(xiàn)對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射;
    · 配有一手動操作的擋板,當?shù)谝淮螢R射清除靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片;
    · 樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:60-100mm。
    · 磁控濺射靶頭和法蘭端蓋可以電動升降
    (可選配2英寸磁控濺射靶頭)
    樣品臺
    樣品臺固定在腔體上法蘭端蓋上,方向垂直朝下
    ·樣品臺通過磁流體密封,可實現(xiàn)樣品臺旋轉(zhuǎn)
    ·樣品臺旋轉(zhuǎn)速度:0.5-5r/min可調(diào)
    ·樣品臺尺寸:φ100mm,通過螺旋壓蓋固定樣品,可選配≤φ100mm的各種尺寸掩膜版,以實現(xiàn)對不同樣品尺寸的鍍膜制備
    ·樣品臺最高溫度可達700度(≤30min),長期使用溫度500度,樣品臺加熱系統(tǒng)通過一程序溫控系統(tǒng)進行控制,可實現(xiàn)30段程序控溫,通過PTD調(diào)節(jié)實現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。

    ·樣品臺和法蘭端蓋可以電動升降

    蒸發(fā)模塊
    · 從腔室右端采用KF50快接法蘭與不銹鋼腔體進行連接,保證腔室的真空度
    · 采用鎢絲作為發(fā)熱源,并且配有專用的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制
    · 標配采用S型熱電偶,蒸發(fā)工作溫度為200-1300度
    · 蒸發(fā)模塊加熱系統(tǒng)通過一程序溫控系統(tǒng)進行控制,可實現(xiàn)30段程序控溫,通過PID調(diào)節(jié)實現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。
    · 蒸發(fā)模塊和樣品臺之間的距離為:60mm
    · 蒸發(fā)模塊坩堝尺寸:外徑φ19.6*內(nèi)徑φ15.4*高度24mm,可選配其它材質(zhì)坩堝,如不銹鋼坩堝等。
    控制面板
    控制面板采用一個7寸觸摸屏實現(xiàn)集成控制
    · 可在觸摸屏上操作真空系統(tǒng),顯示真空度
    · 可在觸摸屏上進行樣品臺加熱溫控程序的設(shè)定和蒸發(fā)模塊溫控系統(tǒng)的設(shè)定
    · 可控制樣品臺的旋轉(zhuǎn)并設(shè)置樣品臺旋轉(zhuǎn)速度
    · 控制電動插板閥的啟動和關(guān)閉
    射頻電源
    · 輸入電源:220V
    · 輸出功率:0-300W
    · 輸出頻率:13.56 MHZ
    · 冷卻方式:設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風冷    
    · 尺寸:132(長)*442(寬)*405mm(高)
    (可根據(jù)濺射靶材不同選配直流電源)
    分子泵
    · 分子泵型號:FF-160/700
    · 抽氣速率:700L/S
    · 極限壓強:6*10-7Pa(不帶負載)
    · 啟動時間:<4min
    · 額定轉(zhuǎn)速:36000 R/min
    · 冷卻方式:風冷加水冷
    · 抽氣口接口尺寸:CF160
    · 帶電動插板閥:可在觸摸屏中控制電動閥的啟動和關(guān)閉

    分子泵控制器
    · 型號:TCP-II
    · 電壓:AC220V/50HZ
    · 輸出功率:750W
    · 加速時間:5min
    · 輸出頻率:0-1300HZ
    復(fù)合真空計
    · 型號:ZDF-III
    · 工作電壓:AC220V 50/60HZ
    · 電阻規(guī)阻值:約85歐
    · 自動保護(電離)>10Pa
    · 電阻規(guī)測量范圍:105-10-1Pa
    · 電離規(guī)測量范圍:100-10-5Pa
    前級機械泵(選配)
    · 抽真空接口為KF40接口
    · 真空泵:VRD-48,抽速48M3/H(13.3L/S)
    · 電機功率:1500W
    · 電機電源:AC380V/50HZ
    · 極限真空:4*10-2Pa(不帶負載)
    · 真空計:ZDZ-52T V01型電阻真空計
    水冷設(shè)備(選配)
    · 型號:KJ-5000
    · 工作電流:1.4-2.1A
    · 制冷量:2361Btu/h
    · 尺寸:55×28×43cm(長×寬×高)
    膜厚檢測儀(選配)
    · 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分別率為0.10 ?
    · LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)



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