VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-1HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風裝置：需要

主要參數

1、電源電壓：220V  50Hz
2、功率：<1KW（不含真空泵）
3、腔體內徑：?300mm
4、極限真空度：9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度）
6、靶槍數量：1個（可選配其他數量）
7、靶槍冷卻方式：水冷
8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
9、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇直流或射頻電源）
10、載樣臺：?140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。
11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調
12、工作氣體：Ar等惰性氣體
13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。

產品規格

1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm
3、重量：160kg
4、真空室規格：φ300×300mm

標準配件

1、直流電源控制系統1套（可選）
2、射頻電源控制系統1套（可選）
3、冷水機1臺
4、聚酯PU管（?6mm）4m

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚監測儀系統
3、分子泵（德國進口或者國產更大抽速）